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    電子束蒸發鍍膜機E-Beam

    簡要描述:v產品概述:系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成v設備用途:本系統配有一套電子槍及電源

    基礎信息

    產品型號

    廠商性質

    代理商

    更新時間

    2024-10-22

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    詳細介紹

    v 產品概述:系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成

    v 設備用途:本系統配有一套電子槍及電源,可滿足在AlNiAgPtPdMo,CrTi等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要

    v 真空室尺寸:定制

    v 極限真空度:6.0E-5Pa

    v 沉積源:640cc坩堝

    v 溫度:300℃

    v 電控描述:全自動

    v 工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%

    v 特色參數:樣品尺寸及數量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架


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